Antireflective member and method of manufacture therefor
WO2018193742
Art A1
25. Oktober 2018
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018193742
- Aktenzeichen
- EP18788398
- Anmeldetag
- 8. März 2018
- Veröffentlichung
- 25. Oktober 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B1/18B32B9/00B32B27/00C09D171/02C23C14/06G02B1/115
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.