Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method

WO2018193760 Art A1 25. Oktober 2018

Anmelder: Fuji Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018193760
Aktenzeichen: EP18787980
Anmeldetag: 14. März 2018
Veröffentlichung: 25. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/52B23K1/00B23K35/14B23K35/26H01L23/373C22C12/00C22C13/00C22C13/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fuji Electric Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fuji Electric

Japanischer Elektrotechnikkonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Leistungshalbleiter, Energieerzeugungsanlagen und industrielle Automatisierungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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