Wafer surface processing method and composition for use with said method

WO2018193841 Art A1 25. Oktober 2018

Anmelder: Central Glass Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018193841
Aktenzeichen: EP18788533
Anmeldetag: 4. April 2018
Veröffentlichung: 25. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C09K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Central Glass Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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