Semiconductor substrate manufacturing method, semiconductor device, and method for manufacturing same
WO2018194133
Art A1
25. Oktober 2018
Anmelder: Mitsui Chemicals, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018194133
- Aktenzeichen
- EP18788331
- Anmeldetag
- 19. April 2018
- Veröffentlichung
- 25. Oktober 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/56C09J5/00C09J179/08H01L21/304H01L23/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsui Chemicals, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsui Chemicals
Mitsui Chemicals ist ein japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, der Basis- und Spezialchemikalien, Kunststoffe sowie Materialien für Elektronik und Mobilität herstellt. Das Unternehmen ging 1997 aus der Fusion mehrerer Mitsui-Chemieunternehmen hervor.
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Vertreten von
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