Highly scattering metasurface phase masks for complex wavefront engineering

WO2018195309 Art A1 25. Oktober 2018

Anmelder: California Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018195309
Aktenzeichen: EP18788075
Anmeldetag: 19. April 2018
Veröffentlichung: 25. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/01G02B1/00

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Anmelder

Firma: California Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 California Institute of Technology

Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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