Water-soluble negative electron beam photoresist and imaging method thereof
WO2018196320
Art A1
1. November 2018
Anmelder: Soochow University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018196320
- Aktenzeichen
- EP17907430
- Anmeldetag
- 6. November 2017
- Veröffentlichung
- 1. November 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/038G03F7/004G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Soochow University
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Soochow University
Soochow University ist eine staatliche Universität in Suzhou, China, mit breitem Fächerspektrum einschließlich Materialwissenschaft und Chemie.
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