Vacuum system and method for depositing a plurality of materials on a substrate

WO2018197010 Art A1 1. November 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018197010
Aktenzeichen: EP17721119
Anmeldetag: 28. April 2017
Veröffentlichung: 1. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/12C23C14/56H01L51/00H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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