Washing method, washing device, storage medium, and washing composition

WO2018198466 Art A1 1. November 2018

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018198466
Aktenzeichen: EP18791777
Anmeldetag: 2. Februar 2018
Veröffentlichung: 1. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/08C11D7/34G03F7/42H01L21/027H01L21/3065H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von