Euv photopatterning and selective deposition for negative pattern mask

WO2018200288 Art A1 1. November 2018

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018200288
Aktenzeichen: EP18791415
Anmeldetag: 18. April 2018
Veröffentlichung: 1. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/027H01L21/02H01L21/033

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von