System and method for photomask alignment and orientation characterization based on notch detection

WO2018200871 Art A1 1. November 2018

Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018200871
Aktenzeichen: EP18791351
Anmeldetag: 26. April 2018
Veröffentlichung: 1. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/44G03F7/20H01L21/68H01L21/033H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Kla-Tencor Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von

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