Method of measuring a parameter of interest, device manufacturing method, metrology apparatus, and lithographic system

WO2018202394 Art A1 8. November 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018202394
Aktenzeichen: EP18717593
Anmeldetag: 11. April 2018
Veröffentlichung: 8. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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