Magnetron sputtering cavity for through-silicon-via filling and semiconductor processing device

WO2018205430 Art A1 15. November 2018

Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018205430
Aktenzeichen: EP17908845
Anmeldetag: 2. August 2017
Veröffentlichung: 15. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67C23C14/35C23C14/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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