Method of measuring a structure, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method

WO2018206227 Art A1 15. November 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018206227
Aktenzeichen: EP18719493
Anmeldetag: 13. April 2018
Veröffentlichung: 15. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/47G01N21/956G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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