Temporary protective film for semiconductor sealing molding

WO2018207408 Art A1 15. November 2018

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018207408
Aktenzeichen
EP18798017
Anmeldetag
25. Januar 2018
Veröffentlichung
15. November 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/56B32B7/02B32B7/12B32B25/08B32B27/00B32B27/30B32B27/34C09J7/20C09J133/00H01L23/50
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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