Vacuum processing device

WO2018207616 Art A1 15. November 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018207616
Aktenzeichen: EP18798277
Anmeldetag: 24. April 2018
Veröffentlichung: 15. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/677C23C14/50C23C14/56C23C16/44C23C16/54H01L21/3065H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von