Cleaning device, substrate processing device, cleaning device maintenance method, and computer-readable recording medium including cleaning device maintenance program
WO2018207704
Art A1
15. November 2018
Anmelder: Ebara Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018207704
- Aktenzeichen
- EP18798511
- Anmeldetag
- 2. Mai 2018
- Veröffentlichung
- 15. November 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Ebara Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ebara
Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.
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