Cuni alloy sputtering target and cuni alloy powder
WO2018207770
Art A1
15. November 2018
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018207770
- Aktenzeichen
- EP18798290
- Anmeldetag
- 8. Mai 2018
- Veröffentlichung
- 15. November 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34B22F1/00C22C1/04C22C9/06C22C19/03
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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