Apparatus for and method of controlling debris in an euv light source

WO2018208388 Art A1 15. November 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018208388
Aktenzeichen: EP18798685
Anmeldetag: 3. April 2018
Veröffentlichung: 15. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G21K1/06H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik

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