Vertical multi-batch magnetic annealing systems for reduced footprint manufacturing environments
WO2018208603
Art A1
15. November 2018
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018208603
- Aktenzeichen
- EP18799049
- Anmeldetag
- 4. Mai 2018
- Veröffentlichung
- 15. November 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/67H01L21/324H01L21/677
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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