Deposition of metal silicide layers on substrates and chamber components

WO2018209200 Art A2 15. November 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018209200
Aktenzeichen: EP18798788
Anmeldetag: 11. Mai 2018
Veröffentlichung: 15. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/033H01L21/027H01L21/02H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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