Vapor deposition method, vapor deposition apparatus, el device production apparatus, and el device production method

WO2018211703 Art A1 22. November 2018

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018211703
Aktenzeichen: EP17910482
Anmeldetag: 19. Mai 2017
Veröffentlichung: 22. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/24C23C14/54H01L27/32H01L51/50H05B33/10H05B33/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.800 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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