Oxide sintered body and production method therefor, sputtering target, oxide semiconductor film, and method for producing semiconductor device

WO2018211724 Art A1 22. November 2018

Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018211724
Aktenzeichen: EP17910142
Anmeldetag: 4. Dezember 2017
Veröffentlichung: 22. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/01C23C14/34H01L21/363H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Electric Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Electric Industries

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.

11.193 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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