Sputtering target for transparent conductive film

WO2018211793 Art A1 22. November 2018

Anmelder: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018211793
Aktenzeichen: EP18801869
Anmeldetag: 8. März 2018
Veröffentlichung: 22. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/01C23C14/08H01B5/14H01B13/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von