Laser anneal device and laser anneal method
WO2018211928
Art A1
22. November 2018
Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018211928
- Aktenzeichen
- EP18802637
- Anmeldetag
- 25. April 2018
- Veröffentlichung
- 22. November 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/268B23K26/066B23K26/073H01L21/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- V Technology Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
V Technology
V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.
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