Laser anneal device and laser anneal method

WO2018211928 Art A1 22. November 2018

Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018211928
Aktenzeichen
EP18802637
Anmeldetag
25. April 2018
Veröffentlichung
22. November 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/268B23K26/066B23K26/073H01L21/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
V Technology Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

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