Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and electronic device production method

WO2018212079 Art A1 22. November 2018

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018212079
Aktenzeichen: EP18802531
Anmeldetag: 11. Mai 2018
Veröffentlichung: 22. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F12/12C08F22/02C08F22/10G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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