Control system, method to increase a bandwidth of a control system, and lithographic apparatus

WO2018215153 Art A1 29. November 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018215153
Aktenzeichen: EP18720209
Anmeldetag: 23. April 2018
Veröffentlichung: 29. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G05B11/42G05B13/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

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