Alignment Mark For Two-Dimensional Alignment in an Alignment System

WO2018215173 Art A1 29. November 2018

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018215173
Aktenzeichen: EP18721770
Anmeldetag: 2. Mai 2018
Veröffentlichung: 29. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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