Heat-resistant reflecting mirror, gas concentration monitor and method for producing heat-resistant reflecting mirror
WO2018216122
Art A1
29. November 2018
Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018216122
- Aktenzeichen
- EP17910741
- Anmeldetag
- 23. Mai 2017
- Veröffentlichung
- 29. November 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B5/08G01N21/03G01N21/3504
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shimadzu Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shimadzu
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.
2.214 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.