Monitoring system for an optical lithography system

WO2018217313 Art A1 29. November 2018

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018217313
Aktenzeichen: EP18806004
Anmeldetag: 2. April 2018
Veröffentlichung: 29. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03B27/54G03C5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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