Methods of forming semiconductor device structures, and related semiconductor device structures, semiconductor devices, and electronic systems

WO2018217426 Art A1 29. November 2018

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018217426
Aktenzeichen: EP18805630
Anmeldetag: 4. Mai 2018
Veröffentlichung: 29. November 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/11556H01L27/11582H01L27/11524H01L27/1157

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von