Particle removal apparatus and associated system

WO2018219509 Art A1 6. Dezember 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018219509
Aktenzeichen: EP18708991
Anmeldetag: 5. März 2018
Veröffentlichung: 6. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B08B6/00H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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