Plasma treatment device and method for manufacturing surface treated film

WO2018221248 Art A1 6. Dezember 2018

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018221248
Aktenzeichen: EP18810326
Anmeldetag: 17. Mai 2018
Veröffentlichung: 6. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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