Fluorinated ether composition for vapor deposition, and article with vapor-deposited film and production method therefor

WO2018221520 Art A1 6. Dezember 2018

Anmelder: AGC Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018221520
Aktenzeichen: EP18809879
Anmeldetag: 29. Mai 2018
Veröffentlichung: 6. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/12C08G65/336C08L71/02C08L83/04C09D5/00C09D171/02C09K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AGC Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

2.222 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von