Atomic layer deposition of stable lithium ion conductive interfacial layer for stable cathode cycling

WO2018222366 Art A2 6. Dezember 2018

Anmelder: The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018222366
Aktenzeichen: EP18809453
Anmeldetag: 10. Mai 2018
Veröffentlichung: 6. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01M4/36H01M4/62H01M4/525H01M4/505C23C16/44C23C16/30C23C16/455H01M4/131

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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