Processing condition setting method, storage medium, and substrate processing system

WO2018225615 Art A1 13. Dezember 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018225615
Aktenzeichen: EP18813053
Anmeldetag: 31. Mai 2018
Veröffentlichung: 13. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05D1/40B05D3/00B05D3/06H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von