Selective in-situ cleaning of high-k films from processing chamber using reactive gas precursor

WO2018226323 Art A1 13. Dezember 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018226323
Aktenzeichen: EP18813386
Anmeldetag: 30. April 2018
Veröffentlichung: 13. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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