High-density low temperature carbon films for hardmask and other patterning applications

WO2018226370 Art A1 13. Dezember 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018226370
Aktenzeichen: EP18813584
Anmeldetag: 15. Mai 2018
Veröffentlichung: 13. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01J37/32G03F7/20H01L21/033H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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