Impedance matching method, impedance matching apparatus and plasma generation device

WO2018228133 Art A1 20. Dezember 2018

Anmelder: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018228133
Aktenzeichen: EP18816899
Anmeldetag: 21. Mai 2018
Veröffentlichung: 20. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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