Mask blank, phase shift mask and method for producing semiconductor device

WO2018230233 Art A1 20. Dezember 2018

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018230233
Aktenzeichen: EP18817333
Anmeldetag: 16. Mai 2018
Veröffentlichung: 20. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32G03F1/58G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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