Lithography original plate, platemaking method for lithography plate, organic polymer particles, and photosensitive resin composition
WO2018230413
Art A1
20. Dezember 2018
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018230413
- Aktenzeichen
- EP18817277
- Anmeldetag
- 6. Juni 2018
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B41N1/14C08G18/67C08L75/04G03F7/00G03F7/004G03F7/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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