Wafer treatment for achieving defect-free self-assembled monolayers
WO2018232103
Art A1
20. Dezember 2018
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018232103
- Aktenzeichen
- EP18816692
- Anmeldetag
- 14. Juni 2018
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027G03F7/20H01L21/02H01L21/324
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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