Method and apparatus for detecting substrate surface variations

WO2018233951 Art A1 27. Dezember 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018233951
Aktenzeichen: EP18725233
Anmeldetag: 17. Mai 2018
Veröffentlichung: 27. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/95H01L21/66G03F7/20G01B11/14G01B11/25G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von