Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

WO2018235721 Art A1 27. Dezember 2018

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018235721
Aktenzeichen: EP18820359
Anmeldetag: 14. Juni 2018
Veröffentlichung: 27. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24C23C14/14G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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