Sputtering target material, sputtering target, aluminum sheet for sputtering target, and production method therefor

WO2018235889 Art A1 27. Dezember 2018

Anmelder: UACJ Corporation, Sumitomo Chemical Company Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018235889
Aktenzeichen: EP18820301
Anmeldetag: 21. Juni 2018
Veröffentlichung: 27. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22F1/04C22F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: UACJ Corporation
Sumitomo Chemical Company Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 UACJ

UACJ ist ein japanischer Hersteller von Aluminiumprodukten, entstanden aus der Fusion von Furukawa-Sky Aluminum und Sumitomo Light Metal. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Fertigungstechnik, ergänzt um Kühltechnik. Anmeldungen sind seit 2003 dokumentiert.

497 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

7.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von