Composition for forming resist underlayer film having improved flattening properties

WO2018235949 Art A1 27. Dezember 2018

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018235949
Aktenzeichen: EP18820841
Anmeldetag: 22. Juni 2018
Veröffentlichung: 27. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G61/12G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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