Verfahren zum Justieren eines Beluchtungssystems für die Mikrolithographie

WO2019002082 Art A1 3. Januar 2019

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019002082
Aktenzeichen: EP18737502
Anmeldetag: 21. Juni 2018
Veröffentlichung: 3. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B26/08G02B5/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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