Method for washing mask for vacuum vapor deposition and rinsing composition

WO2019003605 Art A1 3. Januar 2019

Anmelder: AGC Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019003605
Aktenzeichen
EP18824194
Anmeldetag
20. April 2018
Veröffentlichung
3. Januar 2019
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/04C11D7/28C11D7/50C23C14/00H01L51/50H05B33/10
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
AGC Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

2.222 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen