Film thickness measuring method, method for manufacturing nitride semiconductor laminate, and nitride semiconductor laminate

WO2019003624 Art A1 3. Januar 2019

Anmelder: Sciocs Company Limited, Sumitomo Chemical Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019003624
Aktenzeichen: EP18825514
Anmeldetag: 27. April 2018
Veröffentlichung: 3. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66C30B29/38G01B11/06H01L21/20H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Sciocs Company Limited
Sumitomo Chemical Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von