Metal oxide nanocrystalline film fixation substrate, metal oxide nanocrystal production method, and production method for metal oxide nanocrystalline film fixation substrate

WO2019004372 Art A1 3. Januar 2019

Anmelder: National Institute Of Advanced Industrial Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019004372
Aktenzeichen: EP18824119
Anmeldetag: 28. Juni 2018
Veröffentlichung: 3. Januar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C01G23/00C01G25/00H01L41/187H01L41/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute Of Advanced Industrial Science
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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