Method and compound for controlling patterning of a resist material
WO2019005161
Art A1
3. Januar 2019
Anmelder: INTEL Corporation, Krysak, Marie, Blackwell, James M., Theofanis, Patrick, Bristol, Robert L. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019005161
- Aktenzeichen
- EP17915292
- Anmeldetag
- 30. Juni 2017
- Veröffentlichung
- 3. Januar 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/033H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- INTEL Corporation
Krysak, Marie
Blackwell, James M.
Theofanis, Patrick
Bristol, Robert L. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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